2018년 서울시 공무원(2회) 9급 기계일반 2번 문제/해설

2018. 06. 23. 서울시 (2회) 9급 공무원

기계일반 A책형

[문제 2] (B책형 7번)

 

화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD)에 대한 설명으로 가장 옳지 않은 것은?

① 화학반응 또는 가스분해에 의해 가열된 기판 표면 위에 박막을 성장시키는 공정이다.
② CVD는 인(P) 불순물이 섞인 이산화규소처럼 도핑된 SiO2의 층을 만드는 데 사용될 수 있다.
③ 일반적으로 화학기상증착에 의해 생성된 실리콘 산화물 막의 밀도와 기판에 대한 접합성은 열산화에 의해 생성된 것보다 우수하다.
④ 반도체 웨이퍼 공정에 이산화실리콘, 질화실리콘 및 실리콘 층을 추가하기 위해 널리 사용된다.

 

 

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[해설]

 

※ 화학기상증착법 (chemical vapor deposition, CVD)

: 화학반응 또는 가스분해에 의해 가열된 기판 표면 위에 박막을 성장시키는 공정으로, 반도체 웨어퍼 공정에 이산화실리콘, 질화실리콘 및 실리콘층을 추가하기 위해 널리 사용된다.

 

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[정답] ③

 

 

[문제 출처]
서울특별시 공무원 인터넷 원서접수 (http://gosi.seoul.go.kr/)

 

 

문제/해설 다운로드 https://blog.naver.com/3706nono/221473243322

2018년 서울시 공무원(2회) 9급 기계일반 기출문제 해설